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反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。A.碳酸钠 硫酸钠 胶体硅 有机物等B.氢氧化镁 氯化

2022-08-10 19:34:25 问答库 阅读 190 次

问题详情

反渗透设备膜表面易生成的沉积物是()。
A.碳酸钠、硫酸钠、胶体硅、有机物等
B.氢氧化镁、氯化钙、硫酸钙、肢体硅、有机物等
C.碳酸钙、硫酸钙、金属氧化物、胶体硅、有机物等
D.金属氧化物、氯化钙、硫酸钙、胶体硅、有机物等请帮忙给出正确答案和分析,谢谢!

参考答案

正确答案:C

考点:碳酸钠,氢氧化镁